| 題名 | 半導体プロセス・形状シミュレーション技術−加工精度向上のツボ− |
| ファイル | 半導体プロセ_fyd79.pdf |
| 半導体プロセ_jK6nz.mp3 | |
| 分類 | MP3 96 kHz |
| リリース済み | 2 years 4 months 7 days ago |
| ファイルサイズ | 1,268 KiloByte |
| ページ数 | 109 Pages |
| 時間の長さ | 52 min 42 seconds |
半導体プロセス・形状シミュレーション技術−加工精度向上のツボ−
カテゴリー: コンピュータ・IT, コミック, アート・建築・デザイン
著者: 髙木 茂行, 重里 有三
出版社: 現代書館
公開: 2018-08-30
ライター: 吉野 弘, あいだ
言語: 韓国語, フランス語, ロシア語, イタリア語
フォーマット: Audible版, pdf
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プラズマ核融合学会誌１１月【８０－１１】／解説（斧）.
半導体プロセス・形状シミュレーション技術−加工精度向上のツボ.
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2004年11月11日 ... プラズマプロセス技術の研究開発は，これまで特に，シ. リコンをベースと ... ちつつ，②微細パターンの加工性（形状異方性と寸法精度，. 材料選択性）や ... 本稿では，半導体プラズマプロセスシミュレーションの. 構成について ... 弾性衝突，励起，電離を，イオン−中性粒子間衝突として. 弾性衝突と荷電 ....
2009年4月4日 ... プラズマを用いたドライエッチング技術の高精度・高性 ... ２．２ 半導体プロセスにおけるシリコンエッチング. シリコンをベースと ... プラズマエッチングのモデリング，特に，微細加工形状進展を再現するためのモデルについて，塩素系プラ ... 形状シミュレーションと実験との比較の一例も示し，このモデルの考え方と限界について議論する． ... Sn= 1− x/4. (2) Spontaneous chemical etching. Si(s)+3Cl(s)+C(g) → SiCl４(g) !Si/Cl (Ts). (3) Ion-enhanced etching. Cl+..
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東芝レビュー2003年6月.
プラズマ・核融合学会誌.
雑なため，プロセス条件に対する加工形状を正確にシミュ ... プラズマ診断. ・表面分析. ・プロセス要素. 半導体プロセスのモデル化. 要素技術. 活性種輸送. 形状シミュレーション. （CVD） ... 図１．シミュレーションの構成−半導体プロセス要素技術を元にシミ ... に組み込み統合することで，高精度な形状シミュレーション..
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半導体プロセス・形状シミュレーション技術 -加工精度向上のツボ--Ohmsha
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『半導体プロセス・形状シミュレーション技術−加工精度向上のツボ−』｜感想・レビュー - 読書メーター.
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